美甲神器纳米美甲锉发明专利是我司多年潜心研究的成果,现已成功申请国家专利.
1、一种指甲抛光条，其特征在于，包括基板(1)和抛光层(2)，所述抛光层(2)包括若干密集分布的抛光齿(3)，抛光齿(3)的底部固定在基板(1)上。
2、根据权利要求1所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述抛光齿(3)呈垂直于基板的柱形，抛光齿(3)径向最大宽度为150～250 u m，抛光齿(3)间的间距为80～150 u m。
3、根据权利要求1所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述抛光齿(3)呈垂直于基板(1)的柱形，抛光齿(3)径向最大宽度为180～220 u m，抛光齿(3)间的间距为100～110 U m。
4、根据权利要求1～3中任一项所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述抛光齿(3)高度为18～22 u m。
5、根据权利要求1～3中任一项所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述抛光齿(3)形状为圆柱、四棱柱、六棱柱和三棱柱中的一种。
6、根据权利要求1～3中任一项所述的一种指甲抛光条，其特征在于，抛光齿(3)底部与基板(1)连接为一体式。
7、根据权利要求1～3中任一项所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述基板(1)和抛光齿(3)的材质为玻璃。
8、裉据权利要求1～3中任一项所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述基板(1)和抛光齿(3)的材质为青玻璃、超白玻璃和康宁玻璃中的一种。
9、根据权利要求1所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述抛光齿(3)顶部覆有一层层。
10、如权利要求1～9中任一项所述的一种指甲抛光条的制备方法，其特征在于，包括以下工艺步骤：掩膜版制作：取一块玻璃板(41)，在其表面镀上膜(42)，通过激光直写在膜表面形成若干直径为150～250 u m、相互间距为100～150 u m的小凸点(43)，即制得掩膜版 (4)：
基板处理：取一块高硬度玻璃板为基板(1)，在其表面真空镀上一层膜(51)，再在膜(51)上旋涂一层光刻胶(52)，得到基板复合层(5)；
紫外光刻：将基板复合层(5)与掩膜版(4)紧密贴合后在紫外光刻机上曝光处理；
显影和蚀刻：将曝光处理好的基板复合层(5)与掩膜版(4)分离，再将基板复合层(5)置于中使光刻胶显影，再置于溶液中做膜蚀刻，蚀刻好以后再烘烤，此时基板复合层(5)上形成若干柱状凸起，且柱状凸起在基板复合层(5)上构成了与掩膜版(4) -致的图案；玻璃蚀刻：将基板复合层去除光刻胶：基板复合层蚀后，去除膜上方的光刻胶（52)。
11、根据权利要求10所述的一种指甲抛光条的制备方法，其特征在于，所述掩膜版制作 工艺中，膜（42)包括与玻璃板（41)接触的膜层和膜层外侧的总厚度为150nm，且膜层和膜层通过溅射镀膜的方式镀在玻璃板（41)上。
12、根据权利要求10所述的一种指甲抛光条的制备方法，其特征在于，所述小凸点（43) 顶面形状为圆形、菱形、六边形和三角形中的一种。
13、根据权利要求10所述的一种指甲抛光条的制备方法，其特征在于，所述高硬度玻璃 板为青玻璃、超白玻璃和康宁玻璃中的一种。
14、根据权利要求10所述的一种指甲抛光条的制备方法，其特征在于，所述高硬度玻璃 板厚度为2〜4mm。
15、根据权利要求10所述的一种指甲抛光条的制备方法，其特征在于，所述基板复合层 (6)上的膜（51)厚度为100nm。
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