美甲神器纳米美甲锉发明专利是我司多年潜心研究的成果,现已成功申请国家专利.
1、一种指甲抛光条,其特征在于,包括基板(1)和抛光层(2),所述抛光层(2)包括若干密集分布的抛光齿(3),抛光齿(3)的底部固定在基板(1)上。
2、根据权利要求1所述的一种指甲抛光条,其特征在于,所述抛光齿(3)呈垂直于基板的柱形,抛光齿(3)径向最大宽度为150~250 u m,抛光齿(3)间的间距为80~150 u m。
3、根据权利要求1所述的一种指甲抛光条,其特征在于,所述抛光齿(3)呈垂直于基板(1)的柱形,抛光齿(3)径向最大宽度为180~220 u m,抛光齿(3)间的间距为100~110 U m。
4、根据权利要求1~3中任一项所述的一种指甲抛光条,其特征在于,所述抛光齿(3)高度为18~22 u m。
5、根据权利要求1~3中任一项所述的一种指甲抛光条,其特征在于,所述抛光齿(3)形状为圆柱、四棱柱、六棱柱和三棱柱中的一种。
6、根据权利要求1~3中任一项所述的一种指甲抛光条,其特征在于,抛光齿(3)底部与基板(1)连接为一体式。
7、根据权利要求1~3中任一项所述的一种指甲抛光条,其特征在于,所述基板(1)和抛光齿(3)的材质为玻璃。
8、裉据权利要求1~3中任一项所述的一种指甲抛光条,其特征在于,所述基板(1)和抛光齿(3)的材质为青玻璃、超白玻璃和康宁玻璃中的一种。
9、根据权利要求1所述的一种指甲抛光条,其特征在于,所述抛光齿(3)顶部覆有一层层。
10、如权利要求1~9中任一项所述的一种指甲抛光条的制备方法,其特征在于,包括以下工艺步骤:掩膜版制作:取一块玻璃板(41),在其表面镀上膜(42),通过激光直写在膜表面形成若干直径为150~250 u m、相互间距为100~150 u m的小凸点(43),即制得掩膜版 (4):
基板处理:取一块高硬度玻璃板为基板(1),在其表面真空镀上一层膜(51),再在膜(51)上旋涂一层光刻胶(52),得到基板复合层(5);
紫外光刻:将基板复合层(5)与掩膜版(4)紧密贴合后在紫外光刻机上曝光处理;
显影和蚀刻:将曝光处理好的基板复合层(5)与掩膜版(4)分离,再将基板复合层(5)置于中使光刻胶显影,再置于溶液中做膜蚀刻,蚀刻好以后再烘烤,此时基板复合层(5)上形成若干柱状凸起,且柱状凸起在基板复合层(5)上构成了与掩膜版(4) -致的图案;玻璃蚀刻:将基板复合层去除光刻胶:基板复合层蚀后,去除膜上方的光刻胶(52)。
11、根据权利要求10所述的一种指甲抛光条的制备方法,其特征在于,所述掩膜版制作 工艺中,膜(42)包括与玻璃板(41)接触的膜层和膜层外侧的总厚度为150nm,且膜层和膜层通过溅射镀膜的方式镀在玻璃板(41)上。
12、根据权利要求10所述的一种指甲抛光条的制备方法,其特征在于,所述小凸点(43) 顶面形状为圆形、菱形、六边形和三角形中的一种。
13、根据权利要求10所述的一种指甲抛光条的制备方法,其特征在于,所述高硬度玻璃 板为青玻璃、超白玻璃和康宁玻璃中的一种。
14、根据权利要求10所述的一种指甲抛光条的制备方法,其特征在于,所述高硬度玻璃 板厚度为2〜4mm。
15、根据权利要求10所述的一种指甲抛光条的制备方法,其特征在于,所述基板复合层 (6)上的膜(51)厚度为100nm。
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